原位双气膜DAC压腔：DGDAC
该装置是一套采用气膜原位加压的金刚石对顶砧压腔，适宜在高低温环境进行光学、XRD和磁学测量。该装置也可衍生出适配于多款DAC使用的加压卡套，实现DAC在低温、高温或者磁场等工况下的原位加压卸压操作，配合高强度壳体与小砧面压砧，最高压力可达400GPa。
DGDAC-系列技术说明：
1、匹配小尺寸压砧使用压力400GPa；
2、上下开角(可定制)；
3、工作距离(可定制)；
4、工作温度：5K~1000K；
5、材质(可定制)：高强铍铜合金、高强钢、无磁钢等根据工况选择；
6、垫块(可定制)：铍铜、WC；
7、尺寸规格(可定制)：常规φ60×56mm、φ48×50mm；
8、附件：气膜、1/16”高压管线、气体注入1/16”接口；
9,控制器：Pace系列高压精细气体控制器需另选配。
